6月5日，记者从武汉科技学院获悉，该校2005 级学生孙艺菲凭借作品《WHY NOT》闯入美国ART OFFASHION 时装设计大赛决赛，成为中国内地唯一的入选选手。今年10月底，她将赴旧金山De YoungMuseum 博物馆参加金奖的角逐。

　　据悉，此次大赛收到了来自全球23个国家的79所服装院校的设计稿件，评审委员会评选出60份入围作品，从官方网站公布的入围结果看，Academy ofArt University / San Francisco,（旧金山艺术大学）、Parsons the New School（纽约帕森艺术设计学院——北美十大设计学院之一）、Royal Academy ofFine Arts（比利时安特卫普美术学院）、Hong Kong Polytechnic University（香港理工大学）等全球知名设计院校的学生都参加了这项国际赛事。